技术指标：1、适用于硅片尺寸及管路数：6英寸（150mm）及以下尺寸，三管系统。2、装片数量：25片及以下。3、淀积膜种类：氮化硅、低应力氮化硅、多晶硅及低应力多晶硅、二氧化硅。4、淀积膜均匀性：氮化硅3%，低应力氮化硅5%，多晶硅及低应力多晶硅3%，二氧化硅3%。  

应用领域: 主要用于氧化硅、氮化硅、多晶硅薄膜的沉积。