设为首页
添加收藏
站内检索:
网站首页
基地简介
最新动态
研究人员
项目成果
技术需求
仪器共享
通知公告
联系我们
联系方式
/ CONTACT US
电话:0592-2185900
邮箱:sundh@xmu.edu.cn
地址:福建省厦门市厦门大学
当前位置:
网站首页
仪器共享
正文
OAI光刻机
2017年03月24日 15:31 陈小军 点击:[]
技术指标:
掩模版适用尺寸:五英寸;基片尺寸:4英寸及以下不规则形状基片;汞灯功率:350W;分辨率:2μm。
应用领域:
单面对准曝光。