站内检索:
联系方式/ CONTACT US
电话:0592-2185900
邮箱:sundh@xmu.edu.cn
地址:福建省厦门市厦门大学
当前位置:

网站首页    仪器共享    正文

OAI光刻机

2017年03月24日 15:31 陈小军 点击:[]

技术指标:掩模版适用尺寸:五英寸;基片尺寸:4英寸及以下不规则形状基片;汞灯功率:350W;分辨率:2μm。

应用领域:单面对准曝光。