技术指标:1、宽带光源365，紫外接近，接触式光刻，可实现双面对准。2、最大曝光面积φ100mm。分辨率：1μm。套刻精度：±1μm。2、样品大小：≤4英寸，厚度小于3mm。3、光刻板尺寸：4寸样片5寸版，3寸以下样片4寸或5寸版。

应用领域:将芯片制作所需要的线路与功能区图形从掩膜板复制到样品上。光刻机发出的光通过具有图形的掩膜版对涂有光刻胶的样片曝光，利用感光后的光刻胶在溶液中的溶解速度不同实现图形的复制。