技术指标:1、3支3英寸磁控溅射靶。2、基片加热器采用高温加热材料，最高温度可达到600℃。3、真空性能：A. 极限真空(Ultimate Pressure):1E-7Torr；B. 真空抽速：30分钟从大气压抽到5E-6Torr；C.真空室漏率：5E-5Torr.L/s。4、镀膜均匀性和重复性：在4英寸衬底厚度均匀性优于±5%，重复性优于±3%。5、样品尺寸：≤6英寸。

应用领域:主要用于加工沉积高质量、厚度精确控制的金属薄膜和介质薄膜。