技术指标:1.极限真空8.0×10-4Pa。2.三个直径为100mm的磁控靶，靶基距为8cm不可调。3.一套直流靶电源，功率为2KW。一套13.56MHZ的射频电源，功率为1.5KW。4.工件转盘转速0-20转/分可调。5.适合4英寸及以下各种规格基片。

应用领域:主要用于沉积金属膜。