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JC500-3D 磁控溅射机

2017年03月24日 15:23 陈小军 点击:[]

技术指标:极限真空8×10-4Pa;两个直径为100mm的磁控靶;一套直流靶电源,功率为1KW;一套13.56MHZ的射频电源,功率为1KW;样品尺寸:≤4英寸。

应用领域:主要用沉积金属膜和非金属膜。